Photomask for test wafers

   
   

A manufacturing method of an electronic device is to improve test efficiency using test structure and improve yield. The manufacturing method performs test using a first lead wire disposed on an insulating layer formed on a substrate and a second lead wire electrically connected to the substrate and disposed on the insulating layer and manages the electronic device on the basis of results of the test to manufacture the electronic device. The manufacturing method includes a step of testing whether the first lead wire is disconnected or not by measuring an electric resistance between both ends of the first lead wire and a step of testing whether the first and second lead wires are short-circuited or not by measuring an electric resistance between the first lead wire and the substrate.

Производственный прочесс электронного приспособления должен улучшить эффективность испытания использующ структуру испытания и улучшить выход. Производственный прочесс выполняет испытание использующ первый провод размещанный на изолируя слое сформированном на субстрате и второй провод электрически соединенный к субстрату и размещанный на изолируя слое и управляет электронным приспособлением on the basis of результаты испытания для того чтобы изготовить электронное приспособление. Производственный прочесс вклюает шаг испытывать отключен ли первый провод или не путем измерять электрическое сопротивление между обоими концами первого провода и шагом испытывать закорочены ли первые и вторые проводы или не путем измерять электрическое сопротивление между первым проводом и субстратом.

 
Web www.patentalert.com

< Genes involved in cyclododecanone degradation pathway

< Semiconductor device and method of manufacturing the same

> Drive control device and image forming apparatus including the same

> Method of fabricating a COF utilizing a tapered IC chip and chip mounting hole

~ 00156