A system of determining and correcting alignment during imprint lithography
process is described. During an imprint lithographic process the template
may be aligned with the substrate by the use of alignment marks disposed
on both the template and substrate. The alignment may be determined and
corrected for before the layer is processed.
Um sistema de determinar e de corrigir o alinhamento durante o processo do lithography do imprint é descrito. Durante um processo lithographic do imprint o molde pode ser alinhado com a carcaça pelo uso das marcas de alinhamento dispostas no molde e na carcaça. O alinhamento pode ser determinado e corrigido para antes que a camada esteja processada.
