A method for making an apodized Bragg grating in a photosensitive, planar,
linear waveguide. A photosensitive, planar, linear waveguide is provided
on a surface of a substrate. A patterned phase mask is placed between the
waveguide and a laser beam. The waveguide is exposed through the phase
mask to the laser beam wherein either the laser beam is moving at a
substantially constant velocity with respect to the substrate and phase
mask, or the substrate and phase mask are moving at a substantially
constant velocity with respect to the laser beam. The beam has a smoothly
varying intensity profile, and the exposure is conducted at an angle of
more than 0.degree. and less than 90.degree. to the longitudinal axis of
the waveguide under conditions sufficient to induce a modulation in the
index of refraction of the waveguide and impart an apodized Bragg grating
in the waveguide corresponding to the phase mask pattern.
Eine Methode für das Bilden apodized Bragg Vergitterung in einem lichtempfindlichen, planaren, linearen Wellenleiter. Ein lichtempfindlicher, planarer, linearer Wellenleiter wird auf einer Oberfläche eines Substrates zur Verfügung gestellt. Eine patterned Phase Schablone wird zwischen den Wellenleiter und einen Laserstrahl gesetzt. Der Wellenleiter wird durch die Phase Schablone dem Laserstrahl ausgesetzt, worin entweder der Laserstrahl an einer im wesentlichen konstanten Geschwindigkeit in Bezug auf das Substrat und die Phase Schablone bewegt, oder das Substrat und die Phase Schablone bewegen an einer im wesentlichen konstanten Geschwindigkeit in Bezug auf den Laserstrahl. Der Lichtstrahl hat ein glatt unterschiedliches Intensität Profil, und die Belichtung wird schräg von mehr als 0.degree. und weniger als 90.degree geleitet. zur Längsmittellinie des Wellenleiters unter den Bedingungen, die, genügend sind, eine Modulation im Brechungsindex des Wellenleiters apodized zu verursachen und zuzuteilen Bragg Vergitterung im Wellenleiter, der der Phase Maskenvorlage entspricht.
