A system and method for delivering radiation that comprises a source for
creating an electron beam, a system that focuses the electron beam and
then deflects the beam such that the beam is swept across a first target
as an arbitrary pattern. The arbitrary pattern on the first target is
given an additional intensity modulation. Thereafter, a lens focuses the
arbitrary pattern of electrons from the first target onto a second target.
Ein System und eine Methode für das Liefern der Strahlung, die eine Quelle für das Verursachen eines Elektronenstrahls, ein System enthält, das den Elektronenstrahl und dann fokussiert, den Lichtstrahl so ablenkt, daß der Lichtstrahl über einem ersten Ziel als willkürliches Muster gefegt wird. Das willkürliche Muster auf dem ersten Ziel wird eine zusätzliche Intensitätsmodulation gegeben. Danach fokussiert ein Objektiv das willkürliche Muster der Elektronen vom ersten Ziel auf ein zweites Ziel.
