Barium fluoride high repetition rate UV excimer laser

   
   

The invention relates to an excimer laser which includes a source of a laser beam and one or more windows which include barium fluoride. Another aspect of the invention relates to an excimer laser which includes a source of a laser beam, one or more windows which include barium fluoride and a source for annealing the one or more windows. Another aspect of the invention relates to a method of producing a predetermined narrow width laser beam.

Вымысел относит к лазеру excimer вклюает источник лазерныйа луч и one or more окон вклюает фторид бария. Другой аспект вымысла относит к лазеру excimer вклюает источник лазерныйа луч, one or more окна которые вклюают фторид бария и источник для обжигать one or more окна. Другой аспект вымысла относит к методу производить предопределенный узкий лазерныйа луч ширины.

 
Web www.patentalert.com

< Gas discharge ultraviolet laser with enclosed beam path with added oxidizer

< Ultra-narrow band flourine laser apparatus

> On-line quality control of the key optical components in lithography lasers using laser induced fluorescence

> Semiconductor laser and method of production thereof

~ 00153