Chemical functionalization nanolithography

   
   

The present invention discloses devices and methods relating to patterning substrates using chemical functionalization. The methods include covering the surface of a substrate with a first plurality of molecules, selecting at least one internal bond from the plurality of molecules, and reacting the at least one internal bond to form at least one second functional group. Either or both of the functional groups can then be further reacted.

Die anwesende Erfindung gibt Vorrichtungen und Methoden in bezug auf patterning Substrate mit chemischem functionalization frei. Die Methoden schließen das Umfassen der Oberfläche eines Substrates mit einer ersten Mehrzahl der Moleküle ein, wählen mindestens eine interne Bindung von der Mehrzahl der Moleküle vor, und reagieren die mindestens eine interne Bindung zur Form mindestens eine Sekunde Funktionsgruppe. Irgendeine oder beide der Funktionsgruppen können dann weiter reagiert werden.

 
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< Ion beam apparatus, ion beam processing method and sample holder member

< Enhanced sampling rate in time domain imaging using MOEMS scanning optical delay line

> Methods of making electromechanical three-trace junction devices

> Hybrid circuit having nanotube electromechanical memory

~ 00153