A composition which includes liquid or supercritical carbon dioxide and an
acid having a pKa of less than about 4. The composition is employed in a
process of removing residue from a precision surface, such as a
semiconductor sample, in which the precision surface is contacted with the
composition under thermodynamic conditions consistent with the retention
of the liquid or supercritical carbon dioxide in the liquid or
supercritical state.
Ein Aufbau, der flüssiges oder überkritisches Kohlendioxyd und eine Säure, die ein pKa von kleiner als ungefähr 4 hat miteinschließt. Der Aufbau wird in einem Prozeß des Entfernens des Überrests von einer Präzision Oberfläche, wie einer Halbleiterprobe eingesetzt, in der die Präzision Oberfläche mit dem Aufbau unter den thermodynamischen Bedingungen befragt wird, die mit dem Zurückhalten der Flüssigkeit oder überkritischem Kohlendioxyd im flüssigen oder überkritischen Zustand gleichbleibend sind.
