A method for evaluating concentration of metal impurities contained in a
silicon wafer, which comprises dropping concentrated sulfuric acid onto a
surface of the silicon wafer to extract metal impurities solid-solubilized
in the inside of the silicon wafer into the concentrated sulfuric acid,
and chemically analyzing metal impurities contained in the concentrated
sulfuric acid. The problem imposed on high sensitivity evaluation of
metals contained in silicon bulk is, in addition to increase of
sensitivity of analysis apparatus itself, how to extract metals contained
in a silicon wafer to a surface and recover them. This problem can be
solved by the method of the present invention.
Eine Methode für das Auswerten von von Konzentration der Metallverunreinigungen, die in einer Silikonoblate enthalten wurden, die fallende starke Schwefelsäure auf eine Oberfläche der Silikonoblate enthält, um die Metallverunreinigungen zu extrahieren, die im Innere der Silikonoblate in die starke Schwefelsäure fest-solid-solubilized sind, und Metallverunreinigungen chemisch analysieren enthielt in der starken Schwefelsäure. Das Problem erlegte hoher Empfindlichkeit Auswertung der Metalle auf, die im Silikonhauptteil enthalten wurden, ist, zusätzlich zu Zunahme von Empfindlichkeit des Analyse Apparates selbst, wie man die Metalle extrahiert, die in einer Silikonoblate zu einer Oberfläche enthalten wurden und sie zurückgewinnt. Dieses Problem kann durch die Methode der anwesenden Erfindung gelöst werden.
