An X-ray illumination optical system for an X-ray reduction projection
exposure apparatus includes an oblique projection reflection integrator
having a reflection surface provided by a plurality of small cylindrical
surfaces arrayed in parallel, to perform Koehler illumination of a region
of arcuate shape. It enables X-ray illumination of only an arcuate region
and reduces loss of light quantity and exposure time.
Un système optique d'illumination de rayon X pour un appareillage d'exposition de projection de réduction de rayon X inclut un intégrateur oblique de réflexion de projection faisant fourni une surface de réflexion par une pluralité de petites surfaces cylindrique rangées en parallèle, pour effectuer l'illumination de Koehler d'une région de forme arquée. Il permet l'illumination de rayon X d'une région seulement arquée et réduit la perte de quantité et de temps légers d'exposition.
