An object of the present invention is to provide a window member for
chemical mechanical polishing, which is excellent in antifouling property
and transparency and is excellent in anti-scratching and, further, can
easily perform detection of a polishing endpoint of the surface of a
semiconductor wafer by passing a light for endpoint detection, in
polishing of a semiconductor wafer using an optical endpoint detecting
apparatus and also to a polishing pad. A window member for chemical
mechanical polishing of the present invention is provided with a substrate
part (comprised of polyurethane resin and the like), which is transparent
partly at least, an antifouling resin layer formed on at least one side of
the substrate part. This antifouling resin layer is preferably comprised
of a fluorine-based polymer having a polysiloxane segment in a main chain.
A polishing pad may be the one that a window member is fitted in a through
hole of a substrate for a polishing pad (comprised of polyurethane resin
and the like, disc-like, belt-like or the like) provided with a through
hole penetrating from surface to back, or adhered to a substrate for a
polishing pad so as to cover an opening part of the through hole.
Ein Gegenstand der anwesenden Erfindung ist, ein Fenstermitglied für das chemisches mechanisches Polieren zur Verfügung zu stellen, das in der Holzschutzeigenschaft und im Transparent ausgezeichnet ist und beim Anti-Verkratzen und, ausgezeichnet ist Abfragung eines Polierendpunkts der Oberfläche eines Halbleiterplättchens weiter leicht durchführen kann, indem er führt ein Licht für Endpunktabfragung, im Polieren eines Halbleiterplättchens mit einem optischen Endpunkt, der Apparat ermittelt und auch zu einer Polierauflage. Ein Fenstermitglied für das chemisches mechanisches Polieren der anwesenden Erfindung wird mit einem Substratteil (enthalten vom Polyurethanharz und von dergleichen), das teils mindestens transparent ist, eine Holzschutzharzschicht versehen, die auf mindestens einer Seite des Substratteils gebildet wird. Diese Holzschutzharzschicht wird vorzugsweise von einem Fluor-gegründeten Polymer-Plastik enthalten, das ein polysiloxane Segment in einer Hauptkette hat. Eine Polierauflage kann die sein, daß ein Fenstermitglied in a durch Bohrung eines Substrates für eine Polierauflage (enthalten vom Polyurethanharz und dergleichen, Scheibe-wie, Riemen-wie oder dergleichen) versehen mit a durch die Bohrung gepaßt wird, die von Oberfläche zu Rückseite eindringt, oder an einem Substrat für eine Polierauflage gehaftet, um ein Öffnung Teil der durchgehenden Bohrung zu umfassen.
