Method and apparatus for automated, in situ material detection using filtered fluoresced, reflected, or absorbed light

   
   

A method and apparatus for detection of a particular material, such as photo-resist material, on a sample surface. A narrow beam of light is projected onto the sample surface and the fluoresced and/or reflected light intensity at a particular wavelength band is measured by a light detector. The light intensity is converted to a numerical value and transmitted electronically to a logic circuit which determines the proper disposition of the sample. The logic circuit controls a sample-handling robotic device which sequentially transfers samples to and from a stage for testing and subsequent disposition. The method is particularly useful for detecting photo-resist material on the surface of a semiconductor wafer.

Une méthode et un appareil pour la détection d'un matériel particulier, tel que le matériel de vernis photosensible, sur une surface témoin. Un faisceau de lumière étroit est projeté sur la surface témoin et l'intensité de la lumière produite par fluorescence et/ou reflétée à une bande particulière de longueur d'onde est mesurée par un détecteur léger. L'intensité de la lumière est convertie en valeur numérique et électroniquement transmise à un circuit logique qui détermine la disposition appropriée de l'échantillon. Le circuit logique commande un dispositif robotique demanipulation qui transfère séquentiellement des échantillons à et d'une étape pour l'essai et la disposition suivante. La méthode est particulièrement utile pour détecter le matériel de vernis photosensible sur la surface d'une gaufrette de semi-conducteur.

 
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