The present invention provides a pattern defect inspecting apparatus
wherein an amount-of-light monitor unit detects a variation in the amount
of ultraviolet laser light during inspection to thereby determine the
presence or absence of an influence thereof exerted on the inspection and
detects the prediction of the life of a light source and a malfunction
thereof, and the interior of an optical system is cleaned up to thereby
ensure the prolongation of the life of each optical part and long-term
reliability thereof, and a method thereof.
De onderhavige uitvinding verstrekt een patroontekort het inspecteren apparaat waarin een bedrag-van-licht monitoreenheid een variatie in de hoeveelheid ultraviolet laserlicht tijdens inspectie ontdekt daardoor de aanwezigheid of het ontbreken van een invloed bepalen die daarvan op de inspectie wordt uitgeoefend en de voorspelling van het leven van een lichtbron en een defect daarvan ontdekt, en het binnenland van een optisch systeem wordt schoongemaakt tot daardoor verzekert de verlenging van het leven van elk optisch deel en betrouwbaarheid op lange termijn daarvan, en een methode daarvan.
