EUV, XUV, and X-Ray wavelength sources created from laser plasma produced from liquid metal solutions

   
   

Metallic solutions at room temperature used a laser point source target droplets. Using the target metallic solutions results in damage free use to surrounding optical components since no debris are formed. The metallic solutions can produce plasma emissions in the X-rays, XUV, and EUV (extreme ultra violet) spectral ranges of approximately 11.7 nm and 13 nm. The metallic solutions can include molecular liquids or mixtures of elemental and molecular liquids, such as metallic chloride solutions, metallic bromide solutions, metallic sulphate solutions, metallic nitrate solutions, and organo-metallic solutions. The metallic solutions do not need to be heated since they are in a solution form at room temperatures.

Les solutions métalliques à la température ambiante ont employé des gouttelettes d'une cible de source de point de laser. Employer les solutions métalliques de cible a comme conséquence l'utilisation libre de dommages à entourer les composants optiques puisqu'aucun débris ne sont formés. Les solutions métalliques peuvent produire des émissions de plasma dans les chaînes spectrales de rayons X, de XUV, et d'EUV (extrémité ultra violette) approximativement 11.7 de nm et 13 nm. Les solutions métalliques peuvent inclure les liquides ou les mélanges moléculaires des liquides élémentaires et moléculaires, tels que les solutions métalliques de chlorure, des solutions métalliques de bromure, des solutions métalliques de sulfate, des solutions métalliques de nitrate, et des solutions organométalliques. Les solutions métalliques n'ont pas besoin d'être chauffées puisqu'elles sont sous une forme de solution aux températures ambiantes.

 
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