Method of using foamed insulators in three dimensional multichip structures

   
   

A multichip cube structure having a foamed insulating material disposed between adjacent integrated circuit chips. The foamed insulating material has lower dielectric constant and therefore reduces the capacitive coupling between electrical interconnects on adjacent chips. The foamed insulating material also has higher ductility and lower thermal coefficient of expansion than conventional oxide insulators so as to reduce the occurrence of stress induced cracking in circuitry.

Una struttura del cubo del multichip che ha un materiale isolante spumato disposto di fra il circuito integrato adiacente scheggia. Il materiale isolante spumato ha costante dielettrico più basso e quindi riduce l'accoppiamento capacitivo fra elettrico collega sui circuiti integrati adiacenti. Il materiale isolante spumato inoltre ha l'più alta duttilità e coefficente di espansione termico più basso che gli isolanti convenzionali dell'ossido in modo da ridurre il caso di spezzarsi indotto sforzo in circuiti.

 
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< Semiconductor device with semiconductor chip formed by using wide gap semiconductor as base material

< Structure and method for reducing thermo-mechanical stress in stacked vias

> Monitoring substrate processing using reflected radiation

> Mirror device, mirror adjustment method, exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

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