Reaction chamber with a protected surface

   
   

A reaction chamber has a surface to be protected and a longitudinal axis transverse to this surface. For the protection of the surface, a method is used comprising introducing a primary flow of reactants into the chamber in a manner whirling around the longitudinal axis thereof, withdrawing reaction products at an opposite end of the reaction chamber in a flow along the longitudinal axis, and introducing into the chamber a secondary protecting flow directed from a periphery of the surface towards the longitudinal axis. The primary flow and the flow of reaction products approximate a free vortex flow and a pressure created by this vortex flow keeps the secondary flow adjacent the surface to be protected, substantially over its entire area.

Μια αίθουσα αντίδρασης έχει μια επιφάνεια που προστατεύονται και έναν διαμήκη άξονα εγκάρσιο σε αυτήν την επιφάνεια. Για την προστασία της επιφάνειας, μια μέθοδος είναι χρησιμοποιημένη συμπερίληψη εισάγοντας μια αρχική ροή των αντιδραστηρίων στην αίθουσα με έναν τρόπο poy γύρω από το διαμήκη άξονα επ' αυτού, που αποσύρει τα προϊόντα αντίδρασης σε ένα αντίθετο τέλος της αίθουσας αντίδρασης σε μια ροή κατά μήκος του διαμήκους άξονα, και που εισάγει στην αίθουσα μια δευτεροβάθμια προστατεύοντας ροή που κατευθύνεται από μια περιφέρεια της επιφάνειας προς το διαμήκη άξονα. Η αρχική ροή και η ροή των προϊόντων αντίδρασης προσεγγίζουν μια ελεύθερη ροή δινών και μια πίεση που δημιουργείται από αυτήν την ροή δινών κρατά τη δευτεροβάθμια ροή δίπλα στην επιφάνεια που προστατεύεται, ουσιαστικά πέρα από την ολόκληρη περιοχή της.

 
Web www.patentalert.com

< Process for the production of melamine crystals at high pureness

< Integrated circuit inductors

> Electron emitting device, electron source, image forming apparatus and producing methods of them

> Process for the constrained sintering of asymmetrically configured dielectric layers

~ 00149