A system for evaluating optical proximity corrected (OPC) designs is
provided. The system includes an analysis system for performing
measurements relating to a segment of a feature. The analysis system is
configured to determine a first image for the segment of the feature based
upon the measurements. The analysis system determines a second image to
facilitate analysis of the first image and evaluates OPC designs based
upon comparisons of the first and second image.
Un sistema per la valutazione della prossimità ottica correggeva i disegni (OPC) è fornito. Il sistema include un sistema di analisi per realizzare le misure concernente un segmento di una caratteristica. Il sistema di analisi è configurato per determinare una prima immagine per il segmento della caratteristica basata sulle misure. Il sistema di analisi determina una seconda immagine per facilitare l'analisi della prima immagine e valuta i disegni di OPC basati sui confronti della prima e seconda immagine.
