Method for making quantitative analysis of nickel

   
   

A method for making a quantitative analysis of nickel that includes the steps of providing an amorphous silicon layer, forming an insulating film on the amorphous silicon layer, depositing nickel on the insulating film, etching a defined portion of the nickel with an etchant to create a specimen, drying the specimen on an AP1 film and subjecting the dried specimen to energy dispersive X-ray fluorescence analysis.

Eine Methode für das Bilden einer quantitativen Analyse des Nickels, das die Schritte des Versehens einer formlosen Silikonschicht einschließt und einen isolierenden Film auf der formlosen Silikonschicht bildet und Nickel auf dem isolierenden Film niederlegt und einen definierten Teil des Nickels mit einem etchant ätzt, um ein Probestück zu verursachen, das Probestück trocknend auf einem Film AP1 und unterwerfen das getrocknete Probestück Energie Dispersionsröntgenstrahl-Fluoreszenzanalyse.

 
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