A radiation sensitive refractive index changing composition comprising (A)
a decomposable compound, (B) a non-decomposable compound having a lower
refractive index than the decomposable compound (A), (C) a radiation
sensitive decomposer and (D) a stabilizer. By exposing the composition to
radiation through a pattern mask, the above components (C) and (A) of an
exposed portion are decomposed and a refractive index difference is made
between the exposed portion and unexposed portion, thereby forming a
pattern having different refractive indices.
Une composition changeante sensible en indice de réfraction de rayonnement comportant (a) un composé décomposable, (b) un composé non-décomposable ayant un indice de réfraction inférieur que le composé décomposable (a), (c) un decomposer sensible de rayonnement et (d) un stabilisateur. En exposant la composition au rayonnement par un masque de modèle, les composants ci-dessus (c) et (a) d'une partie exposée sont décomposés et une différence d'indice de réfraction est faite entre la partie exposée et la partie non exposée, formant de ce fait un modèle ayant différents indices de réfraction.
