Chuck for exposure apparatus

   
   

The present invention is related to a chuck on which an array substrate having a plurality of cells for an IPS-LCD device is located for a light exposure process. The chuck of the present invention includes a chuck frame having a rectangular shape corresponding to a substrate; first and second lift pin holes that face to each other with respect to a horizontal center line of the chuck frame; third and fourth lift pin holes that face to each other with respect to a vertical center line of the chuck frame; and lift pins in each lift pin hole. Therefore, light reflected by the lift pin holes during the light exposure process does not affect a photo-resist formed over the substrate.

De onderhavige uitvinding is verwant met een klem waarop een seriesubstraat dat een meerderheid van cellen voor een apparaat ips-LCD heeft voor een lichte blootstellingsprocédé wordt gevestigd. De klem van de onderhavige uitvinding omvat een klemkader dat een rechthoekige vorm heeft die aan een substraat beantwoordt; eerst en de tweede gaten van de liftspeld die aan elkaar met betrekking tot een horizontale middellijn van het klemkader onder ogen zien; de derde en vierde gaten van de liftspeld die aan elkaar met betrekking tot een verticale middellijn van het klemkader onder ogen zien; en liftspelden in elk gat van de liftspeld. Daarom beïnvloedt licht weerspiegeld door de gaten van de liftspeld tijdens het lichte blootstellingsprocédé geen photo-resist die over het substraat wordt gevormd.

 
Web www.patentalert.com

< BTK inhibitors and methods for their identification and use

< Mouthpiece for an inhalation device

> Powder inhaler for combined medicament

> Methods to improve neural outcome

~ 00147