Optical waveguides and grating structures fabricated using polymeric dielectric compositions

   
   

Using polymeric dielectric materials (preferably materials derived from bisbenzocyclobutene monomers) and an electron beam lithography process for patterning this material, we have developed a process for fabricating optical waveguides with complex integrated devices such as gratings. Such gratings are not limited to one-dimensional type gratings but can include 2 dimensional gratings such as curved gratings or photonic crystals. Due to the properties of BCB, this process could also be implemented using optical photolithography depending upon the waveguide dimensions desired and the grating dimensions desired. Alternatively, the optical waveguide could be patterned using optical lithography and the grating can be patterned using electron beam lithography. Gratings with much more dimensional precision can be fabricated using electron beam lithography. Gratings fabricated with precise dimensional control are required, for example, for many applications including Dense Wavelength Division Multiplexing (DWDM) for telecommunications applications.

Mit polymerischen dielektrischen Materialien (vorzugsweise die Materialien abgeleitet von den bisbenzocyclobutene Monomeren) und einem Elektronenstrahllithographieprozeß für patterning dieses Material, haben wir einen Prozeß für das Fabrizieren der optischen Wellenleiter mit komplizierten integrierten Vorrichtungen wie Vergitterungen entwickelt. Solche Vergitterungen werden nicht begrenzt, auf eindimensionale Art Vergitterungen aber können 2 Maßvergitterungen wie gebogene Vergitterungen oder photonic Kristalle einschließen. Wegen der Eigenschaften von BCB, konnte dieser Prozeß mit der optischen photolithographie auch eingeführt werden, die nach dem Wellenleiter abhängt, bemißt gewünscht und die kratzenden Maße gewünscht. Wechselweise könnte der optische Wellenleiter patterned mit optischer Lithographie und die Vergitterung kann patterned mit Elektronenstrahllithographie. Vergitterungen mit viel dimensionalpräzision können mit Elektronenstrahllithographie fabriziert werden. Die Vergitterungen, die mit exakter Meßprüfung fabriziert werden, werden z.B. für viele Anwendungen einschließlich die dichte Wellenlänge-Abteilung Mehrkanalausrüstung (DWDM) für Nachrichtentechnikanwendungen angefordert.

 
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