A system and method to facilitate pattern recognition or matching between
patterns are disclosed that is substantially invariant to small
transformations. A substantially smooth deformation field is applied to a
derivative of a first pattern and a resulting deformation component is
added to the first pattern to derive a first deformed pattern. An
indication of similarity between the first pattern and a second pattern
may be determined by minimizing the distance between the first deformed
pattern and the second pattern with respect to deformation coefficients
associated with each deformed pattern. The foregoing minimization
provides a system (e.g., linear) that may be solved with standard
methods.
Un sistema e un metodo per facilitare il riconoscimento di forme o la corrispondenza fra i modelli sono rilevati che è sostanzialmente invariabile alle piccole trasformazioni. Un campo sostanzialmente regolare di deformazione è applicato ad un derivato di un primo modello e un componente risultante di deformazione è aggiunto al primo modello per derivare un primo modello deforme. Un'indicazione di somiglianza fra il primo modello e un secondo modello può essere determinata minimizzando la distanza fra il primo modello deforme ed il secondo modello riguardo ai coefficenti di deformazione connessi con ogni modello deforme. La minimizzazione precedente fornisce un sistema (per esempio, lineare) che può essere risolto con i metodi standard.
