Method for forming suspended microstructures

   
   

A method for forming a suspended microstructure is provided. The method includes providing a monocrystalline target substrate and subjecting the surface of the monocrystalline target substrate to ion implantation to form a microstructure layer at the surface of the monocrystalline target substrate. An epitaxial material layer is formed overlying the microstructure layer. A handle substrate is provided and a patterned interposed material layer is provided between the epitaxial material layer and the handle substrate. The epitaxial material layer, the patterned interposed material layer and the handle substrate are affixed. The method further includes thermally treating the monocrystalline target substrate to effect separation between the microstructure layer and a remainder of the monocrystalline target substrate.

Μια μέθοδος για μια ανασταλμένη μικροδομή παρέχεται. Η μέθοδος περιλαμβάνει την παροχή ενός monocrystalline υποστρώματος στόχων και την υποβολή της επιφάνειας του monocrystalline υποστρώματος στόχων στην ιονική εμφύτευση για να διαμορφώσει ένα στρώμα μικροδομής στην επιφάνεια του monocrystalline υποστρώματος στόχων. Ένα κρυσταλλικό υλικό στρώμα διαμορφώνεται επικαλύπτοντας το στρώμα μικροδομής. Ένα υπόστρωμα λαβών παρέχεται και ένα διαμορφωμένο υλικό στρώμα παρέχεται μεταξύ του κρυσταλλικού υλικού στρώματος και του υποστρώματος λαβών. Το κρυσταλλικό υλικό στρώμα, το διαμορφωμένο υλικό στρώμα και το υπόστρωμα λαβών επισυνάπτονται. Η μέθοδος περιλαμβάνει περαιτέρω θερμικά να μεταχειριστεί το monocrystalline υπόστρωμα στόχων στο χωρισμό επίδρασης μεταξύ του στρώματος μικροδομής και ενός υπολοίπου του monocrystalline υποστρώματος στόχων.

 
Web www.patentalert.com

< Method and structure for microfluidic flow guiding

< Method of fabricating a microstructure

> Bulk silicon mirrors with hinges underneath

> Fluid-dispensing chip

~ 00146