The present invention provides a cross-linker monomer of formula 1, a
photoresist polymer derived from a monomer comprising the same, and a
photoresist composition comprising the photoresist polymer. The
cross-linking unit of the photoresist polymer can be hydrolyzed (or
degraded or broken) by an acid generated from a photoacid generator on the
exposed region. It is believed that this acid degradation of the
cross-linking unit increases the contrast ratio between the exposed region
and the unexposed region. The photoresist composition of the present
invention has improved pattern profile, enhanced adhesiveness, excellent
resolution, sensitivity, durability and reproducibility.
##STR1##
where A, B, R.sub.1, R.sub.2, R.sub.3, R.sub.4, R.sub.5, R.sub.6 and k are
as defined herein.
De onderhavige uitvinding verstrekt een dwars-linkermonomeer van formule 1, een photoresist polymeer die uit een monomeer wordt afgeleid bestaand uit het zelfde, en een photoresist samenstelling bestaand uit het photoresist polymeer. De het cross-linking eenheid van het photoresist polymeer kan worden gehydroliseerd of () door een zuur worden gedegradeerd of worden gebroken dat van een photoacidgenerator wordt geproduceerd op het blootgestelde gebied. Men gelooft dat deze zure degradatie van de het cross-linking eenheid de contrastverhouding tussen het blootgestelde gebied en het onbelichte gebied verhoogt. De photoresist samenstelling van de onderhavige uitvinding heeft patroonprofiel, verbeterde kleverigheid, uitstekende resolutie, gevoeligheid, duurzaamheid en reproduceerbaarheid verbeterd. ## STR1 ## waar A, B, R.sub.1, R.sub.2, R.sub.3, R.sub.4, R.sub.5, R.sub.6 en k zoals hierin bepaald zijn.
