A system and method is provided that facilitates the uniform development of
a pattern on a photoresist material layer using a developer. The present
invention accomplishes this end by considering the acid-base relationship
of the photoresist material and developer and monitoring the development
of water formed in the development process. Typically, photoresist
material is purchased or manufactured with known concentrations of resin
and photoacid generator. Therefore, by monitoring the development of water
in the development process, the present invention can measure the acid
consumption in the development process. The present invention can then
utilize this information in optimizing the developer volume, developer
concentration and developer time to improve the quality of the developed
image pattern on the photoresist material layer.
Um sistema e um método são contanto que facilita o desenvolvimento uniforme de um teste padrão em uma camada material do photoresist usando um colaborador. A invenção atual realiza esta extremidade considerando o relacionamento da ácido-base do material e do colaborador do photoresist e monitorando o desenvolvimento da água dado forma no processo do desenvolvimento. Tipicamente, o material do photoresist é comprado ou manufaturado com concentrações sabidas da resina e do gerador do photoacid. Conseqüentemente, monitorando o desenvolvimento da água no processo do desenvolvimento, a invenção atual pode medir o consumo ácido no processo do desenvolvimento. A invenção atual pode então utilizar esta informação em optimizing o volume do colaborador, a concentração do colaborador e o momento do colaborador melhorar a qualidade do teste padrão desenvolvido da imagem na camada do material do photoresist.
