A substrate treating apparatus includes a heat-treating unit having a
cooling unit and a local transport mechanism. The local transport
mechanism, in time of standby, is placed in a standby position inside the
cooling unit. The local transport mechanism in the standby position
influences, and is influenced by, the environment outside the
heat-treating unit less than where the local transport mechanism is kept
on standby outside the heat-treating unit. Variations in substrate
treating precision due to such adverse influences are reduced to perform
substrate treatment with high precision.
Ένα υπόστρωμα που μεταχειρίζεται τις συσκευές περιλαμβάνει μια μονάδα θερμότητα-μεταχείρησης που έχει μια δροσίζοντας μονάδα και έναν τοπικό μηχανισμό μεταφορών. Ο τοπικός μηχανισμός μεταφορών, εγκαίρως της εφεδρείας, τοποθετείται σε μια εφεδρική θέση μέσα στη δροσίζοντας μονάδα. Ο τοπικός μηχανισμός μεταφορών στην εφεδρική θέση επηρεάζει, και επηρεάζεται κοντά, το περιβάλλον έξω από τη μονάδα θερμότητα-μεταχείρησης λιγότερο από όπου ο τοπικός μηχανισμός μεταφορών κρατιέται στην εφεδρεία έξω από τη μονάδα θερμότητα-μεταχείρησης. Οι παραλλαγές στο υπόστρωμα που μεταχειρίζεται την ακρίβεια λόγω σε τέτοιες δυσμενείς επιρροές μειώνονται για να εκτελέσουν την επεξεργασία υποστρωμάτων με την υψηλή ακρίβεια.
