A displacement measurement system constructed and arranged to measure the
position of optical elements in a projection system of a lithographic
projection apparatus makes use of the interferential measurement principle
which involves use of a first diffraction grating mounted on the optical
element and a second diffraction grating mounted on a reference frame.
Система измерения смещения построенная и аранжированная, что измерила положение оптически элементов в системе проекции литографской пользы моделей прибора проекции interferential принципа измерения включает пользу первой решетки огибания установленной на оптически элементе и второй решетки огибания установила на рамке справки.
