An electron source forming substrate wherein an insulating material film is
disposed on the surface of the substrate at which surface an
electron-emitting device is arranged. The insulating material film
contains a plurality of metallic oxide particles having an average
particle size within the range of 6 nm to 60 nm as expressed in a median
value, and suppresses undesirable diffusion of Na from the substrate,
thereby makes stable an electron-emitting characteristics, without an
adverse effect due to the Na diffusion, even elapsing longer time.
Une source d'électron formant le substrat où un film matériel isolant est disposé sur la surface du substrat sur quelle surface un dispositif d'électron-émission est arrangé. Le film matériel isolant contient une pluralité de particules métalliques d'oxyde ayant une dimension particulaire moyenne dans la marge de 6 nm à 60 nm comme exprimé en valeur médiane, et supprime la diffusion indésirable du Na du substrat, fait de ce fait à stable des caractéristiques d'électron-émission, sans effet nuisible dû à la diffusion de Na, même plus long temps d'écoulement.
