The present invention describes thick film photolithographic molds, methods
of making thick film photolithographic molds, and methods of using thick
film photolithographic molds to form spacers on a substrate. The thick
film photolithographic molds preferably comprise an epoxy bisphenol A
novolac resin. The present invention also describes sol gel spacers
comprising sodium silicates and potassium silicates. The thick film
photolithographic molds and sol gel spacers of the present invention can
be used in flat panel displays, such as field emission displays and plasma
displays.
La présente invention décrit les moules photolithographic de film épais, les méthodes de la fabrication film épais des moules photolithographic, et les méthodes d'employer les moules photolithographic de film épais pour former des entretoises sur un substrat. Les moules photolithographic de film épais comportent de préférence une résine époxyde de novolac du bisphenol A. La présente invention décrit également des entretoises de gel de solénoïde comportant des silicates de sodium et des silicates de potassium. Les moules de film épais et les entretoises photolithographic de gel de solénoïde de la présente invention peuvent être employés dans les affichages sur écran plat, tels que des affichages d'émission de champ et des affichages de plasma.
