An optical system for projection photolithography is disclosed. The optical
system is a modified Dyson system capable of imaging a large field over
both a narrow and a broad spectral range. The optical system includes a
positive lens group having a positive subgroup of elements that includes
at least a plano-convex element and a negative subgroup that includes at
least a negative meniscus element. The lens subgroups are separated by a
small air space. The positive and negative subgroups constitute a main
lens group arranged adjacent to but spaced apart from a concave mirror
along the mirror axis. The system also includes a variable aperture stop
so that the system has a variable NA. A projection photolithography system
that employs the optical system is also disclosed.
Ένα οπτικό σύστημα για τη φωτολιθογραφία προβολής αποκαλύπτεται. Το οπτικό σύστημα είναι ένα τροποποιημένο σύστημα Dyson ικανό της απεικόνισης ένας μεγάλος τομέας και πέρα από μια στενή και ευρεία φασματική σειρά. Το οπτικό σύστημα περιλαμβάνει μια θετική ομάδα φακών που έχει μια θετική υποομάδα στοιχείων που περιλαμβάνει τουλάχιστον ένα επιπεδο-κυρτός στοιχείο και μια αρνητική υποομάδα που περιλαμβάνει τουλάχιστον ένα αρνητικό στοιχείο μηνίσκων. Οι υποομάδες φακών χωρίζονται από ένα μικρό διάκενο υαλοπινάκων. Οι θετικές και αρνητικές υποομάδες αποτελούν μια κύρια ομάδα φακών που τακτοποιείται δίπλα αλλά που χωρίζεται κατά διαστήματα εκτός από έναν κοίλο καθρέφτη κατά μήκος του άξονα καθρεφτών. Το σύστημα περιλαμβάνει επίσης μια μεταβλητή στάση ανοιγμάτων έτσι ώστε το σύστημα έχει ένα μεταβλητό NA. Ένα σύστημα φωτολιθογραφίας προβολής που χρησιμοποιεί το οπτικό σύστημα αποκαλύπτεται επίσης.
