A method of forming an interferometer film for an interferometer sensor
comprises forming a parylene polymer layer (8) of substantially uniform
thickness directly on an interferometer substrate (4;45), the layer
forming the interferometer film. Since the interferometer film (8) formed
directly onto the surface of the interferometer substrate, there is
improved conformity between the two surfaces at the interface between the
polymer layer and the substrate and improved uniformity in the thickness
of the film.
Une méthode de former un film d'interféromètre pour une sonde d'interféromètre comporte former une couche parylénique de polymère (8) d'épaisseur essentiellement uniforme directement sur un substrat d'interféromètre (4;45), la couche formant le film d'interféromètre. Puisque le film d'interféromètre (8) a formé directement sur la surface du substrat d'interféromètre, il y a de conformité améliorée entre les deux surfaces à l'interface entre la couche de polymère et le substrat et l'uniformité améliorée dans l'épaisseur du film.
