A substrate attracting and holding method includes steps of supporting a
substrate by use of a protrusion provided on a holding table for holding
the substrate and reducing pressure between the holding table and the
substrate to attract and hold the substrate. The protrusion is disposed to
be placed in a predetermined positional relation, with respect to a
direction along the surface of the substrate, with (i) a position of an
alignment mark to be used for processing the substrate or (ii) a position
to with respect to which an alignment mark is to be produced. The method
also includes attracting and holding the substrate.
Een substraat dat en methode aantrekt houdt omvat stappen van het steunen van een substraat door middel van een uitsteeksel dat op een holdingslijst voor het houden van het substraat en verminderend druk tussen de holdingslijst en het substraat wordt verstrekt om het substraat aan te trekken en te houden. Het uitsteeksel wordt geschikt om in een vooraf bepaalde positionele relatie, met betrekking tot een richting langs de oppervlakte van het substraat, met (i) een positie van een groeperingsteken dat voor de verwerking van het substraat of (ii) een positie worden geplaatst aan moet worden gebruikt waarmet betrekking tot een groeperingsteken moet worden veroorzaakt. De methode omvat ook het aantrekken van en het houden van het substraat.
