A material for shadow mask having the following composition of components:
C.ltoreq.0.0008 wt %, Si.ltoreq.0.03 wt %, Mn:0.1 to 0.5 wt %,
P.ltoreq.0.02 wt %, S.ltoreq.0.02 wt %, Al:0.01 to 0.07 wt %,
N.ltoreq.0.0030 wt %, B: an amount satisfying the formula: 5
ppm.ltoreq.B-11/14.times.N.ltoreq.30 ppm, balance: Fe and inevitable
impurities; a method for producing the material; a shadow mask using the
material (cold rolled steel sheet); and an image receiving tube equipped
with the shadow mask. The material has excellent etching characteristics,
which are uniform within the same coil, and excellent press formability.
Een materiaal voor schaduwmasker dat de volgende samenstelling van componenten heeft: C.ltoreq.0.0008 gewicht %, Si.ltoreq.0.03 gewicht %, Mn:0.1 aan 0,5 gewicht %, P.ltoreq.0.02 gewicht %, S.ltoreq.0.02 gewicht %, Al:0.01 aan 0,07 gewicht %, N.ltoreq.0.0030 gewicht %, B: een bedrag dat de formule tevredenstelt: 5 ppm.ltoreq.B-11/14.times.N.ltoreq.30 p.p.m., saldo: Fe en onvermijdelijke onzuiverheden; een methode om het materiaal te produceren; een schaduwmasker dat het materiaal gebruikt (koudgewalste staalplaat); en een beeld dat buis ontvangt die met het schaduwmasker wordt uitgerust. Het materiaal heeft uitstekende etskenmerken, die binnen de zelfde rol, en uitstekende persformability eenvormig zijn.
