A scan type projection exposure apparatus which includes an illumination
optical system for forming a slit-shaped illumination area on a pattern on
a mask by using illuminating light, and a projection optical system for
forming an image of a portion of the pattern in the illumination area on a
substrate, includes: a mask stage which moves at least in one direction
while holding the mask; a substrate stage which moves two-dimensionally
while holding the substrate; a control system for synchronously scanning
the mask stage and the substrate stage; and an image forming performance
adjusting system for adjusting image forming performance of the projection
optical system and having a component placed in an area through which the
illuminating light incident from the illumination area on the mask to the
projection optical system does not pass.
Un tipo apparecchiatura per l'esposizione di esplorazione della proiezione che include un sistema ottico di illuminazione per formare una fend-a forma di zona di illuminazione su un modello su una mascherina usando la luce illuminante e un sistema ottico della proiezione per formare un'immagine di una parte del modello nella zona di illuminazione su un substrato, include: una fase della mascherina che si muove almeno in un senso mentre tenuta la mascherina; una fase del substrato che si muove two-dimensionally mentre tenuta il substrato; un sistema di controllo per contemporaneamente l'esplorazione la fase della mascherina e della fase del substrato; e un'immagine che forma prestazioni che registrano sistema per ottenere la registrazione dell'immagine che forma prestazioni del sistema ottico della proiezione e che ha un componente disposto in una zona con cui l'avvenimento chiaro illuminante dalla zona di illuminazione sulla mascherina al sistema ottico della proiezione non passa.
