ZnO/sapphire substrate and method for manufacturing the same

   
   

A ZnO/sapphire substrate includes an R-plane sapphire substrate whose (0 1-1 2) planes are parallel to the surface thereof and a ZnO epitaxial film formed on the R-plane sapphire substrate. The (1 1-2 0) planes of the ZnO epitaxial film are disposed with an interplanar spacing in the range of about 1.623 to 1.627 .ANG. parallel to the (0 1-1 2) planes of the R-plane sapphire substrate.

Een substraat van ZnO/van de saffier omvat een r-Vlak saffiersubstraat waarvan (0 1-1 2) vliegtuigen zijn parallel daarvan met de oppervlakte en een epitaxial film ZnO die op het r-Vlakke saffiersubstraat wordt gevormd. (1 wordt 1-2 0) vliegtuigen van de epitaxial film ZnO geschikt met het interplanar uit elkaar plaatsen in het bereik van ongeveer 1.623 tot 1.627. ANG parallel met (0 1-1 2) vliegtuigen van het r-Vlakke saffiersubstraat.

 
Web www.patentalert.com

< Silicon wafer and method for manufacture thereof, and method for evaluation of silicon wafer

< Anode material for non-aqueous electrolyte secondary battery and non-aqueous electrolyte secondary battery using such anode material

> System and method for processing residual gas

> Catalysts for lean burn engine exhaust abatement

~ 00138