The foreign matter adhered to the data bearing surface of a master medium
is removed by use of a dry, non-contact removal process, so as to
facilitate the performance of a high transfer quality magnetic transfer.
Before performing a magnetic transfer or forming an optical disk, a
magnetic transfer master medium or an optical disk master medium is placed
in a vacuum chamber. The vacuum chamber is evacuated by an evacuating
means, and a reactive gas is introduced thereto by a gas introducing
means. In the state in which the chamber has been evacuated and the
reactive gas has been introduced thereto, a discharging means applies a
discharge voltage in the chamber, causing a plasma discharge to be
generated between the master medium and an electrode. The plasma etching
action of the plasma discharge burns off the foreign matter adhered to the
surface of the master medium.
Die Auslandsangelegenheit, die die Datenauflagefläche eines Vorlagenmittels angehaftet wird, wird mittels einen trockenen, berührungsfreien Abbauprozeß entfernt, um die Leistung einer hohe Übergangsqualitätsmagnetischen Übertragung zu erleichtern. Vor dem Durchführen einer magnetischen Übertragung oder der Formung einer optischen Scheibe, wird ein magnetisches Übergangshauptmittel oder ein optisches Scheibe Hauptmittel in einen Vakuumraum gelegt. Der Vakuumraum wird durch evakuierende Mittel evakuiert, und ein reagierendes Gas wird dazu durch ein Gas eingeführt, das Mittel vorstellt. Im Zustand, in dem der Raum evakuiert worden ist und das reagierende Gas dazu eingeführt worden ist, wendet die Entladung von von Mitteln eine Entladung Spannung im Raum an und veranläßt eine Plasmaentladung, zwischen dem Vorlagenmittel und einer Elektrode erzeugt zu werden. Die Plasmaradierung Tätigkeit der Plasmaentladung brennt weg von der Auslandsangelegenheit, die die Oberfläche des Vorlagenmittels angehaftet wird.
