Process for optically erasing charge buildup during fabrication of an integrated circuit

   
   

A process for optically reducing charge build-up in an integrated circuit includes exposing the integrated circuit or portions thereof to a broadband radiation source. The process effectively reduces charge buildup that occurs in the manufacture of integrated circuits.

Un procédé pour réduire optiquement l'habillage de charge dans un circuit intégré inclut exposer le circuit intégré ou les parties en à une source à bande large de rayonnement. Le processus réduit efficacement l'habillage de charge qui se produit dans la fabrication des circuits intégrés.

 
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