Test structure and method of step coverage for optical waveguide production
are disclosed. It combines the steps of producing the optical waveguide
and the testing structure by forming the optical waveguide components on
the chip and the test structure in the surrounding areas, so the optical
waveguide and the test structure have the same upper covering layer.
Etching solution is used for the etch testing of the test structure, and
the step coverage of the upper covering layer for the optical waveguide is
extrapolated by the etching result.
La estructura de la prueba y el método de cobertura del paso para la producción óptica de la guía de onda se divulgan. Combina los pasos de producir la guía de onda óptica y la estructura de prueba formando los componentes ópticos de la guía de onda en la viruta y la estructura de la prueba en los alrededores, así que la guía de onda óptica y la estructura de la prueba tienen la misma capa superior de la cubierta. La solución de la aguafuerte se utiliza para la prueba del grabado de pistas de la estructura de la prueba, y la cobertura del paso de la capa superior de la cubierta para la guía de onda óptica es extrapolada por el resultado de la aguafuerte.
