Apparatus and method for rapid photo-thermal surfaces treatment

   
   

An apparatus for surface treating a semiconductor wafer includes a surface treatment chamber and a source of radiation. The semiconductor wafer disposed inside the chamber is illuminated with radiation sufficient to create a plurality of electron-hole pairs near the surface of the wafer and to desorb ions and molecules adsorbed on the surface of the wafer.

Μια συσκευή για την επιφάνεια που μεταχειρίζεται μια γκοφρέτα ημιαγωγών περιλαμβάνει μια αίθουσα επεξεργασίας επιφάνειας και μια πηγή ακτινοβολίας. Η γκοφρέτα ημιαγωγών που διατίθεται μέσα στην αίθουσα είναι φωτισμένη με την ακτινοβολία επαρκή για να δημιουργήσει μια πολλαπλότητα των ζευγαριών ηλεκτρόνιο-τρυπών κοντά στην επιφάνεια της γκοφρέτας και για να εκροφήσει τα ιόντα και τα μόρια που προσροφώνται στην επιφάνεια της γκοφρέτας.

 
Web www.patentalert.com

< Methods of forming hafnium-containing materials, methods of forming hafnium oxide, and capacitor constructions comprising hafnium oxide

< MOUNTING STRUCTURE AND MOUNTING METHOD OF A PHOTOVOLTAIC ELEMENT, MOUNTING SUBSTRATE FOR MOUNTING A SEMICONDUCTOR ELEMENT THEREON AND METHOD FOR MOUNTING A SEMICONDUCTOR ELEMENT ON SAID MOUNTING SUBSTRATE

> Si-based resonant interband tunneling diodes and method of making interband tunneling diodes

> Light emitting device and manufacturing method thereof

~ 00137