A management system including a plurality of semiconductor exposure
apparatuses is provided for controlling various exposures in manufacturing
a semiconductor device. When plural numbers of times of exposure are
performed, the management system determines a combination of semiconductor
exposure apparatuses having the most appropriate exposure condition for
each number of times of exposure based on a distortion generated in the
semiconductor exposure apparatus.
Un sistema di amministrazione compreso una pluralità di apparecchiature per l'esposizione a semiconduttore è fornito per il controllo delle esposizioni varie nella produzione del dispositivo a semiconduttore. Quando i numero di volte plurali di esposizione sono effettuati, il sistema di amministrazione determina una combinazione delle apparecchiature per l'esposizione a semiconduttore che hanno il termine di esposizione più adatto per ogni numero di volte di esposizione basati su una distorsione generata nell'apparecchiatura per l'esposizione a semiconduttore.
