A method and apparatus for controlling the focal position of the UV light
for auto-focussing the converged UV light, and a method and apparatus and
for inspecting a device, such as a semiconductor wafer or liquid crystal
using the converged UV light, in which the UV light converged is to be
auto-focussed accurately and speedily. The method includes an inspection
stage 11 for supporting a semiconductor wafer, an objective lens for UV
light 40 or converging a UV laser light for illuminating the laser light
converged to the semiconductor wafer, a distance sensor 41 secured to this
objective lens for UV light 40 to detect the distance to the semiconductor
wafer and a controller for causing movement of the inspection stage 11 in
a perpendicular direction. The controller causes the distance between the
objective lens for UV light 40 and the semiconductor wafer to coincide
with the target distance T based on the distance as detected by the
distance sensor 41.
Μια μέθοδος και μια συσκευή για την εστιακή θέση του UV φωτός για την αυτόματος-συγκέντρωση του συγκλιμένου UV φωτός, και μια μέθοδος και μια συσκευή και για την επιθεώρηση μιας συσκευής, όπως μια γκοφρέτα ημιαγωγών ή ένα υγρό κρύσταλλο που χρησιμοποιεί το συγκλιμένο UV φως, στο οποίο το UV φως σύγκλινε πρόκειται να αυτόματος-στραφούν ακριβώς και γρήγορα. Η μέθοδος περιλαμβάνει ένα στάδιο 11 επιθεώρησης για την υποστήριξη μιας γκοφρέτας ημιαγωγών, ένας αντικειμενικός φακός για το UV φως 40 ή σύγκλιση ένα UV φως λέιζερ για τη διαφώτιση του φωτός λέιζερ σύγκλινε στην γκοφρέτα ημιαγωγών, ένας αισθητήρας 41 απόστασης που εξασφαλίστηκε σε αυτόν τον αντικειμενικό φακό για το UV φως 40 για να ανιχνεύσει την απόσταση στην γκοφρέτα ημιαγωγών και έναν ελεγκτή για την πρόκληση της μετακίνησης του σταδίου 11 επιθεώρησης σε μια κάθετη κατεύθυνση. Ο ελεγκτής αναγκάζει την απόσταση μεταξύ του αντικειμενικού φακού για το UV φως 40 και της γκοφρέτας ημιαγωγών για να συμπέσει με την απόσταση τ στόχων βασισμένη στην απόσταση όπως ανιχνεύεται από τον αισθητήρα 41 απόστασης.
