Substrate-selecting equipment selects substrates used for objective
products from among a group of substrates with photosensitive material
layers used for the production of photomask. The substrate-selecting
equipment comprises one or more of the defect-registering part(s) for
registering the results of the inspection of defects of substrates with
photosensitive material layers in database, the photosensitive material
layer lot check result-registering part for registering the results of
check of lots of photosensitive material layers in database and the
substrate-selecting part for selecting substrates used for the production
of objective products from among a group of substrates with photosensitive
material layers, on the basis of the results of inspection of defects and
the results of check of lots of photosensitive materials registered in
database.
Η υπόστρωμα-επιλογή του εξοπλισμού επιλέγει τα υποστρώματα που χρησιμοποιούνται για τα αντικειμενικά προϊόντα από μεταξύ μιας ομάδας υποστρωμάτων με τα φωτοευαίσθητα υλικά στρώματα που χρησιμοποιούνται για την παραγωγή του photomask. Ο υπόστρωμα-επιλέγοντας εξοπλισμός περιλαμβάνει ένα ή περισσότερα από το ατέλεια-καταχωρώντας μέρος (σ) για την καταχώρηση των αποτελεσμάτων της επιθεώρησης των ατελειών των υποστρωμάτων με τα φωτοευαίσθητα υλικά στρώματα στη βάση δεδομένων, το φωτοευαίσθητο υλικό μέρος ελέγχου μερών στρώματος αποτέλεσμα-καταχωρώντας για την καταχώρηση των αποτελεσμάτων του ελέγχου των μερών των φωτοευαίσθητων υλικών στρωμάτων στη βάση δεδομένων και το υπόστρωμα-επιλέγοντας μέρος για την επιλογή των υποστρωμάτων που χρησιμοποιούνται για την παραγωγή των αντικειμενικών προϊόντων από μεταξύ μιας ομάδας υποστρωμάτων με τα φωτοευαίσθητα υλικά στρώματα, βάσει των αποτελεσμάτων της επιθεώρησης των ατελειών και των αποτελεσμάτων του ελέγχου των μερών των φωτοευαίσθητων υλικών που καταχωρούνται στη βάση δεδομένων.
