Spray nozzle system for a semiconductor wafer container cleaning aparatus

   
   

A cleaning system for cleaning boxes or containers used to carry semiconductor wafers has box holder assemblies attached to a rotor within an enclosure. Liquid spray manifolds have one or more spray nozzles that spray at an angle toward or away from the direction of rotation of the rotor, or an angle up or down, rather than straight at the boxes in the box holder assemblies. Improved spray coverage and cleaning is achieved.

Un sistema de la limpieza para las cajas o los envases de la limpieza llevaba las obleas de semiconductor tiene montajes del sostenedor de la caja unidos a un rotor dentro de un recinto. Los múltiples líquidos del aerosol tienen unos o más inyectores de aerosol hacia los cuales rocíe en ángulo o lejos de la dirección de la rotación del rotor, o un ángulo para arriba o abajo, más bien que derecho en las cajas en los montajes del sostenedor de la caja. Se alcanza la cobertura y la limpieza mejoradas del aerosol.

 
Web www.patentalert.com

< Side-specific cleaning method and apparatus

< TRANSFER DEVICES FOR HANDLING MICROELECTRONIC WORKPIECES WITHIN AN ENVIRONMENT OF A PROCESSING MACHINE AND METHODS OF MANUFACTURING AND USING SUCH DEVICES IN THE PROCESSING OF MICROELECTRONIC WORKPIECES

> Processing tools, components of processing tools, and method of making and using same for electrochemical processing of microelectronic workpieces

> Electroplating system having auxiliary electrode exterior to main reactor chamber for contact cleaning operations

~ 00135