Method of fabricating a semiconductor device having a non-volatile semiconductor memory and a capacitor

   
   

A semiconductor integrated circuit comprises a non-volatile semiconductor memory and a capacitor formed respectively on a first region and a second region of a substrate, wherein an insulation film of the non-volatile semiconductor memory has a thickness different from a capacitor insulation film of the capacitor.

Ένα ολοκληρωμένο κύκλωμα ημιαγωγών περιλαμβάνει μια αμετάβλητη μνήμη ημιαγωγών και έναν πυκνωτή που διαμορφώνονται αντίστοιχα σε μια πρώτη περιοχή και μια δεύτερη περιοχή ενός υποστρώματος, όπου μια ταινία μόνωσης της αμετάβλητης μνήμης ημιαγωγών έχει ένα πάχος διαφορετικό από μια ταινία μόνωσης πυκνωτών του πυκνωτή.

 
Web www.patentalert.com

< Dual-purpose anti-reflective coating and spacer for flash memory and other dual gate technologies and method of forming

< Semiconductor memory device having large storage capacity and minimal step height between memory cell and peripheral circuits

> Circuit and method for an open bit line memory cell with a vertical transistor and trench plate trench capacitor

> Semiconductor device and fabrication method thereof

~ 00134