A method and computer program product is described for optimizing the
design of a circuit layout that assigns binary properties to the design
elements according to a hierarchy of rules. For example, the design of an
alternating phase shifted mask (altPSM) is optimized first according to
rules that assign phase shapes that maximize image quality for critical
circuit elements, and then further optimized to minimize mask
manufacturability problems without significantly increasing the complexity
of the design process flow. Further optimization of the design according
to additional rules can be performed in a sequentially decreasing priority
order. As the priority of rules decrease, some violation of lower priority
rules may be acceptable, as long as higher priority rules are not
violated.
Een methode en computerprogrammaproduct wordt beschreven voor het optimaliseren van het ontwerp van een kringslay-out die binaire eigenschappen aan de ontwerpelementen volgens een hiërarchie van regels toewijst. Bijvoorbeeld, wordt het ontwerp van een afwisselend fase verplaatst masker (altPSM) geoptimaliseerd eerst volgens regels die fasevormen die beeldkwaliteit voor kritieke kringselementen maximaliseren, en dan verder geoptimaliseerd om de problemen te minimaliseren van maskermanufacturability zonder de ingewikkeldheid van de stroom van het ontwerpproces beduidend te verhogen toewijzen. De verdere optimalisering van het ontwerp volgens extra regels kan in een opeenvolgend dalende prioritaire orde worden uitgevoerd. Aangezien de prioriteit van regels vermindert, kan één of andere schending van lagere prioritaire regels aanvaardbaar zijn, zolang de hogere prioritaire regels niet worden overtreden.
