Narrow band excimer laser with a prism-grating as line-narrowing optical element

   
   

An excimer or molecular fluorine laser system includes a laser chamber filled with a gas mixture at least including a halogen-containing species and a buffer gas, and multiple electrodes with the laser chamber connected to a discharge circuit energizing the gas mixture. The laser chamber is within a laser resonator generating an output beam. The resonator includes a line-narrowing package for reducing a bandwidth of the output beam. The line-narrowing package includes a grating or grism element for use with a highly reflective (HR) and/or an anti-reflective (AR) dielectric coating. The grating may serve as a resonator reflector having a dielectric HR coating. The grating may be disposed before a HR mirror and thus have a dielectric AR or HR coating when the grating is configured in transmission or reflection mode, respectively. The grating may be used as an output coupler, and may be partially reflective with or without a coating. The grism may have a dielectric AR coating on any transmissive surface and a dielectric HR coating on any reflective surface.

Excimer ή μοριακό ένα σύστημα λέιζερ φθορίου περιλαμβάνει μια αίθουσα λέιζερ που γεμίζουν με ένα αέριο μίγμα τουλάχιστον συμπεριλαμβανομένου ενός halogen-containing είδους και ενός απομονωτή αέριο, και τα πολλαπλάσια ηλεκτρόδια με την αίθουσα λέιζερ που συνδέεται με ένα κύκλωμα απαλλαγής που ενεργοποιεί το αέριο μίγμα. Η αίθουσα λέιζερ είναι μέσα σε ένα αντηχείο λέιζερ που παράγει μια ακτίνα παραγωγής. Το αντηχείο περιλαμβάνει μια γραμμή-στενεύοντας συσκευασία για τη μείωση ενός εύρους ζώνης της ακτίνας παραγωγής. Η γραμμή-στενεύοντας συσκευασία περιλαμβάνει ένα κιγκλίδωμα ή ένα στοιχείο grism για τη χρήση με ένα ιδιαίτερα αντανακλαστικό (HR) ή/και ένα αντι-αντανακλαστικό διηλεκτρικό επίστρωμα (AR). Το κιγκλίδωμα μπορεί να χρησιμεύσει ως ένας ανακλαστήρας αντηχείων που έχει ένα διηλεκτρικό επίστρωμα ωρ.. Το κιγκλίδωμα μπορεί να διατεθεί πριν από έναν καθρέφτη ωρ. και να έχει έτσι επίστρωμα ένα διηλεκτρικό του AR ή ωρ. όταν διαμορφώνεται το κιγκλίδωμα στον τρόπο μετάδοσης ή αντανάκλασης, αντίστοιχα. Το κιγκλίδωμα μπορεί να χρησιμοποιηθεί ως συζευκτήρας παραγωγής, και μπορεί να είναι μερικώς αντανακλαστικό με ή χωρίς ένα επίστρωμα. Το grism μπορεί να έχει ένα διηλεκτρικό επίστρωμα του AR σε οποιαδήποτε μεταδιδόμενη επιφάνεια και ένα διηλεκτρικό επίστρωμα ωρ. σε οποιαδήποτε αντανακλαστική επιφάνεια.

 
Web www.patentalert.com

< Group III nitride compound semiconductor laser and manufacturing method thereof

< Laser with a resonant optical reflector

> Gas discharge laser with improved beam path

> Solid-state laser apparatus excited by laser light from semiconductor laser unit having increased resonator length

~ 00133