Composition for removing trace impurities from inert, non-reactive and reactive liquids

   
   

Trace impurities such as organic compounds in an inert, non-reactive or reactive liquid such as ammonia, hydrogen chloride, hydrogen bromide, and chlorine are reduced by at least a factor of 5 using liquid purifying systems that contain an ultra-low emission (ULE) carbon. The moisture level of the purified reactive liquid is only slightly higher than that of the contaminated liquid.

De onzuiverheden van het spoor zoals organische samenstellingen in een inerte, niet reactieve of reactieve vloeistof zoals ammoniak, waterstofchloride, waterstofbromide, en chloor worden verminderd door minstens een factor van 5 gebruikend vloeibare zuiverende systemen die een ultra-low emissie (ULE) koolstof bevatten. Het vochtigheidsniveau van de gezuiverde reactieve vloeistof is lichtjes slechts hoger dan dat van de vervuilde vloeistof.

 
Web www.patentalert.com

< Nonvolatile semiconductor memory device with double data storage circuit for writing and write-verifying multi-state memory cells

< Particle deposition system and method

> Chemical mechanical polishing in forming semiconductor device

> Saucepan

~ 00132