Hybrid compound, resist, and patterning process

   
   

A phenolic resin/silicone resin hybrid compound is obtained by effecting hydrolytic condensation of an organooxysilane in the co-presence of a phenolic resin. The hybrid compound is used as the base polymer in a resist for endowing a resist film with excellent adhesion to a metal substrate.

Μια φαινολική υβριδική ένωση ρητίνης/ρητίνης σιλικόνης λαμβάνεται με την εκτέλεση της υδρολυτικής συμπύκνωσης ενός organooxysilane στην ομο-παρουσία μιας φαινολικής ρητίνης. Η υβριδική ένωση χρησιμοποιείται όπως το πολυμερές σώμα βάσεων αντιστέκεται για τη χρηματοδότηση αντιστέκεται στην ταινία με την άριστη προσκόλληση σε ένα υπόστρωμα μετάλλων.

 
Web www.patentalert.com

< Method of making coated articles and coated articles made thereby

< Corrosion-resistant heat exchanger

> Light absorbing pattern film coated article production method and light absorbing pattern film coated articles

> Ferroelectric transistor with enhanced data retention

~ 00132