A method for inspecting a semiconductor wafer using an SEM having a nominal
focal plane and operable for guiding a beam. The SEM having a stage
movable in each of an X-, Y-, and Z-direction, including moving the SEM
stage in the XY-direction to a first location for inspection, optically
sensing the location of the top surface of an area in relation to the
focal plane of the stage, adjusting the position of the stage in the
Z-direction so that the top surface of the area is substantially at the
focal plane, inspecting the areas, and moving the stage in the
XY-direction to the next location such that the next area is under the SEM
beam for inspection. The Z-stage using a non-contact optical sensor to
provide feedback to drive a plurality of piezoelectric actuator to move
the wafer to the focal plane.
Un método para examinar una oblea de semiconductor usando un SEM que tiene un plano focal nominal y operable para dirigir una viga. El SEM que tiene un mueble de la etapa en cada uno de un X -, Y -, y Z-direccio'n, incluyendo la mudanza de la etapa de SEM en la XY-direccio'n a una primera localización para la inspección, ópticamente detectando la localización de la superficie superior de un área en lo referente al plano focal de la etapa, ajustando la posición de la etapa en la Z-direccio'n de modo que la superficie superior del área esté substancialmente en el plano focal, examinando las áreas, y moviendo la etapa en la XY-direccio'n a la localización siguiente tales que el área siguiente está bajo viga de SEM para la inspección. La Z-etapa usando un sensor óptico sin contacto para proporcionar la regeneración para conducir una pluralidad de actuador piezoeléctrico para mover la oblea al plano focal.
