The present invention relates to a radiation sensitive photoresist
composition comprising a photoacid initiator and a polycyclic polymer
comprising repeating units that contain pendant acid labile groups. Upon
exposure to an imaging radiation source the photoacid initiator generates
an acid which cleaves the pendant acid labile groups effecting a polarity
change in the polymer. The polymer is rendered soluble in an aqueous base
in the areas exposed to the imaging source.
Η παρούσα εφεύρεση αφορά μια ευαίσθητη photoresist ακτινοβολίας σύνθεση περιλαμβάνοντας έναν ιδρυτή photoacid και ένα πολυκυκλικό πολυμερές σώμα περιλαμβάνοντας επαναλαμβάνοντας τις μονάδες που περιέχουν τις όξινες ασταθείς ομάδες κρεμαστών κοσμημάτων. Επάνω στην έκθεση σε μια πηγή ακτινοβολίας απεικόνισης ο ιδρυτής photoacid παράγει ένα οξύ που διασπά τις όξινες ασταθείς ομάδες κρεμαστών κοσμημάτων που πραγματοποιούν μια αλλαγή πολικότητας στο πολυμερές σώμα. Το πολυμερές σώμα καθίσταται διαλυτό σε μια υδάτινη βάση στις περιοχές που εκτίθενται στην πηγή απεικόνισης.
