Imagable articles and compositions therefor

   
   

Disclosed is a thermally sensitive imagable article and compositions therefor. The imagable article comprises a coating on a substrate, the coating comprising an amino acid or amide, and a compound capable of generating an acid upon heating. The coating optionally comprises a radiation absorbing compound. When imagewise exposed the coating has the property that exposed regions become relatively insoluble in a developer liquid whereas regions that have not been exposed remain relatively soluble in the developer and dissolve in the developer, leaving the exposed substrate in those regions.

Révélé est un article imagable thermiquement sensible et des compositions pour cette fin. L'article imagable comporte un enduit sur un substrat, enduire comportant un acide aminé ou une amide, et un composé capable de produire d'un acide sur le chauffage. L'enduit comporte sur option un composé absorbant de rayonnement. Si sous forme d'image a exposé l'enduit a la propriété que les régions exposées deviennent relativement insolubles dans un liquide de réalisateur tandis que les régions qui le démuni exposé restent relativement soluble dans le réalisateur et se dissolvent dans le réalisateur, laissant le substrat exposé dans ces régions.

 
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< Method for producing a semiconductor component comprising a t-shaped contact electrode

< Polymers, resist compositions and patterning process

> Resist compositions and patterning process

> Photoresist compositions comprising polycyclic polymers with acid labile pendant groups

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